Το φωτοανθεκτικό είναι ένα μείγμα πολυμερών και ορισμένων ενώσεων, μεταξύ των οποίων η πιο σημαντική είναι μια γεννήτρια φωτοξέος (PAG). Όταν τα φωτόνια χτυπούν το PAG, παράγεται ένα οξύ που αντιδρά με το πολυμερές, το αποσυνθέτει και προκαλεί τη διάλυσή του από τον κατασκευαστή.
Το φωτοανθεκτικό φωτολιθογραφίας συνήθως χωρίζεται σε δύο τύπους: θετικό φωτοανθεκτικό και αρνητικό φωτοανθεκτικό.
Θετικό φωτοανθεκτικό: Το εκτεθειμένο τμήμα είναι διαλυτό στο διάλυμα ανάπτυξης, ενώ το μη εκτεθειμένο τμήμα είναι αδιάλυτο στο διάλυμα ανάπτυξης. Μετά την ανάπτυξη, το μοτίβο φωτοαντίστασης που απομένει στο υπόστρωμα είναι το ίδιο με το σχέδιο στόχου στην πλάκα μάσκας.
Αρνητικό φωτοανθεκτικό: Το εκτεθειμένο τμήμα είναι αδιάλυτο στο διάλυμα ανάπτυξης, ενώ το μη εκτεθειμένο τμήμα είναι διαλυτό στο διάλυμα ανάπτυξης. Το μοτίβο φωτοαντίστασης που απομένει στο υπόστρωμα μετά την ανάπτυξη είναι συμπληρωματικό του σχεδίου στόχου στην πλάκα μάσκας.
Επομένως, για θετικό φωτοανθεκτικό, η χάραξη του υποστρώματος χωρίς προστασία φωτοανθεκτικού μετά την ολοκλήρωση της φωτολιθογραφίας και τελικά η απομάκρυνση του εναπομείναντος φωτοανθεκτικού, επιτυγχάνεται η διαδικασία κατασκευής ενός-βήματος συσκευών ημιαγωγών στην επιφάνεια του υποστρώματος.
