Ελάχιστο μέγεθος χαρακτηριστικών
Ελάχιστη κρίσιμη διάσταση (CD):
Το ελάχιστο μέγεθος χαρακτηριστικών, γνωστό και ως μέγεθος μισού βήματος, είναι μία από τις πιο σημαντικές παραμέτρους για τη μέτρηση της απόδοσης των λιθογραφικών μηχανών.
Μεταξύ αυτών, είναι μια σταθερά που ποικίλλει σε διαφορετικά σχήματα λιθογραφίας, όπου λ είναι το μήκος κύματος της πηγής φωτός εισόδου και NA είναι το αριθμητικό άνοιγμα του οπτικού συστήματος της μηχανής λιθογραφίας. Για σταθερές, επί του παρόντος η μηχανή λιθογραφίας DUV της ASML στην Ολλανδία μπορεί να επιτύχει το μέγιστο περίπου 0,25, ενώ η EUV εξακολουθεί να είναι περίπου 0,35. Όσο μικρότερο είναι το μήκος κύματος της πηγής φωτός εισόδου, τόσο μικρότερη είναι η πραγματική διαδικασία φωτολιθογραφίας που μπορεί να πραγματοποιηθεί. Για το αριθμητικό διάφραγμα NA, το ανώτατο όριο αυτής της τιμής είναι γενικά 1,0 για τα σχήματα DUV χωρίς διαβροχή και περίπου 1,35 για σχήματα DUV διαβροχής. Σε σύγκριση με τη λιθογραφία χωρίς εμβάπτιση, οι μηχανές λιθογραφίας εμβάπτισης χρησιμοποιούν πρόσθετο υγρό για διάθλαση κατά τη διάρκεια της λιθογραφίας, συνήθως καθαρό νερό με δείκτη διάθλασης περίπου 1,33. Αυτός είναι και ο λόγος που οι μηχανές λιθογραφίας εμβάπτισης έχουν μεγαλύτερο ΝΑ.
Ακρίβεια χάραξης
Ακρίβεια επικάλυψης: Η ακρίβεια ευθυγράμμισης μεταξύ μοτίβων μάσκας και γκοφρέτας.
Η βασική έννοια αναφέρεται στην ακρίβεια ευθυγράμμισης των μοτίβων μεταξύ των δύο διαδικασιών φωτολιθογραφίας. Εάν η απόκλιση ευθυγράμμισης είναι πολύ μεγάλη, θα επηρεάσει άμεσα την απόδοση του προϊόντος.
Ανοχή έκθεσης
Γεωγραφικό πλάτος έκθεσης: Το γεωγραφικό πλάτος έκθεσης, γνωστό και ως περιθώριο έκθεσης, είναι μία από τις σημαντικές παραμέτρους του παραθύρου διεργασίας. Τα συστήματα οπτικής έκθεσης μπορούν να σχηματίσουν ένα εύρος ενέργειας έκθεσης που πληροί τις απαιτήσεις της διάταξης σχεδιασμού. Συνήθως ορίζεται από το εύρος επιλογής ενέργειας έκθεσης εντός ± 10% της αλλαγής στην τιμή CD που ανιχνεύεται από το αποτέλεσμα έκθεσης. Εάν το πλάτος γραμμής του εκτεθειμένου σχεδίου αλλάζει σχετικά λίγο όταν το φωτοανθεκτικό αποκλίνει από τη βέλτιστη δόση έκθεσης, υποδηλώνει ότι το φωτοανθεκτικό έχει μεγάλη ανοχή έκθεσης. Όσο μεγαλύτερη είναι η ανοχή έκθεσης, τόσο μεγαλύτερη είναι η ανοχή ανάπτυξης.
Η ανοχή έκθεσης και η αντίθεση της εικόνας προβολής συνδέονται στενά. Εάν το μέγεθος χαρακτηριστικών της προβαλλόμενης εικόνας έχει κακή αντίθεση εικόνας, θα είναι πολύ ευαίσθητο στις αλλαγές δόσης
