Επισκόπηση προϊόντος
Οι μηχανές Reactive Ion Etching (RIE) είναι εργαλεία ξηρής χάραξης υψηλής απόδοσης-με βάση την τεχνολογία εκφόρτισης ραδιοσυχνοτήτων. Το βασικό τους κόλπο; Συνδυασμός φυσικού βομβαρδισμού με χημικές αντιδράσεις για την ακριβή απομάκρυνση των υλικών-στόχων-χωρίς φασαρία, μόνο ακρίβεια.
Ταιριάζουν τέλεια σε ολόκληρη τη ροή εργασιών της βιομηχανίας ημιαγωγών, από την Ε&Α έως την παραγωγή πλήρους κλίμακας-. Πυρίτιο, σύνθετοι ημιαγωγοί, όλα τα είδη διηλεκτρικών υλικών-όπως ονομάζετε το υπόστρωμα, μπορούν να το χαράξουν με ακρίβεια. Και είναι στο σπίτι σε βασικές διαδικασίες για την αιχμή-τεχνολογίας: ολοκληρωμένα κυκλώματα, οπτοηλεκτρονικές συσκευές, εξοπλισμός επικοινωνίας 5G, ακόμη και κβαντικά τσιπ.
Προσθέστε τον ψηφιακό έξυπνο έλεγχο και την αυτόματη ρύθμιση σταθερής πίεσης και θα έχετε σταθερή-επαναληψιμότητα διεργασιών και σταθερότητα χάραξης κάθε φορά. Είτε εκτελείτε μικρές-παρτίδες εργαστηριακών δοκιμών είτε παράγετε προϊόντα σε ένα εργοστάσιο, αυτά τα μηχανήματα προσαρμόζονται απρόσκοπτα. Χρειάζεστε επιπλέον απόδοση; Επιλέξτε τον θάλαμο φόρτωσης LOAD LOCK. Μειώνει την ατμοσφαιρική μόλυνση, επιταχύνει τη φόρτωση και διατηρεί το κενό του θαλάμου σφιχτό-για να δημιουργήσει ένα καθαρό, σταθερό περιβάλλον για χάραξη υψηλής-ακρίβειας. Κατώτατη γραμμή: βοηθά τους πελάτες να εξομαλύνουν τις τεχνικές παραμορφώσεις από την Ε&Α συσκευών μέχρι τη μαζική παραγωγή.
Εφαρμογές
Τα μηχανήματα RIE λάμπουν με ακριβή χάραξη και προσαρμοστικότητα πολλαπλών-υλικών-είναι ιδανικά-για Ε&Α και παραγωγή ημιαγωγών. Εδώ είναι που πραγματικά παραδίδουν:
1. Κατασκευή ενσωματωμένου κυκλώματος (IC): Εξαιρετικό για λογικά τσιπ και μνήμη (περιλαμβάνεται DRAM, NAND Flash). Καρφώνει τη χάραξη μικρο-σε-νανοκλίμακας σε υποστρώματα πυριτίου και πύλες πολυπυριτίου, διατηρώντας σταθερές τις δομές των κυκλωμάτων και την ηλεκτρική απόδοση.
2. Παραγωγή οπτοηλεκτρονικών συσκευών: Ταιριάζει ακριβώς στην κατασκευή LED και VCSEL. Χαράσσει ζαφείρι, υλικά με βάση το GaN-και διηλεκτρικά στρώματα SiO2 για να δημιουργήσει περιοχές εκπομπής φωτός-και δομές κυματοδηγών, αυξάνοντας την απόδοση φωτοηλεκτρικής μετατροπής.
3. 5Επεξεργασία συσκευής επικοινωνίας G: Ιδανική για εξοπλισμό RF 5G (φίλτρα, ενισχυτές ισχύος). Χαράσσει υποστρώματα GaAs, GaN και SiC για να δημιουργήσει δομές μικρο-υψηλών συχνοτήτων, διασφαλίζοντας ότι τα σήματα παραμένουν σταθερά ακόμη και κάτω από συνθήκες υψηλής-συχνότητας και υψηλής ισχύος-.
4. Προηγμένη Έρευνα Ημιαγωγών: Υποστηρίζει χαρακτικά χαμηλών-βλαβών για κβαντικά τσιπ (υπεραγώγιμα, τύπους κβαντικών κουκκίδων) και μικρο{2}}νανοεπεξεργασία αιχμής-υλικών όπως καρβίδιο του πυριτίου και υλικά 2D-ιδανικά για εξερεύνηση διεργασιών από ερευνητικά ιδρύματα.
5. MEMS και πεδίο αισθητήρα: Χειρίζεται συσκευές MEMS (επιταχυνσιόμετρα, μικροκάτοπτρα) και αισθητήρες ημιαγωγών. Χαράσσει διηλεκτρικά με βάση το πυρίτιο και το πυρίτιο- για να σχηματίσει τρισδιάστατες μικροδομές, διασφαλίζοντας σταθερή μηχανική απόδοση και ευαισθησία ανίχνευσης.
Φόντα
1.Ακρίβεια κορυφαίας-επιπέδου:
Η φυσική και η χημική χάραξη συνεργάζονται για να καρφώσουν μικρο-σε-ακρίβεια νανοκλίμακας-ακριβώς στο ίδιο επίπεδο με αυτό που απαιτεί η μικρο-νανοβιομηχανία.
01
2. Ευρεία συμβατότητα υλικού:
Παίζει ωραία με πυρίτιο, σύνθετους ημιαγωγούς, διηλεκτρικά και άλλα, καλύπτοντας τις ανάγκες επεξεργασίας σε όλα τα είδη πεδίων.
02
3. Υψηλή σταθερότητα:
Διαθέτει ψηφιακό έλεγχο θερμοκρασίας και σταθερή ρύθμιση πίεσης, διατηρώντας τις διαδικασίες συνεπείς και μειώνοντας τις ακατάστατες διακυμάνσεις.
03
4. Χαμηλή υλική ζημιά:
Διατηρεί τις βλάβες και τη μόλυνση του υποστρώματος στο ελάχιστο, έτσι ώστε οι αρχικές ιδιότητες των υλικών σας να παραμένουν ανέπαφες.
04
5. Μεγάλη ευελιξία:
Μπορείτε να επιλέξετε έναν θάλαμο LOAD LOCK και υποστηρίζουμε επίσης προσαρμοσμένες ρυθμίσεις για να ταιριάζουν σε οποιαδήποτε θήκη χρήσης έχετε.
05
Παράμετροι
|
Είδος |
Ειδικοί Δείκτες |
|
Εφαρμόσιμο μέγεθος γκοφρέτας |
8 ιντσών και κάτω |
|
Ρυθμός χάραξης |
0,1-4μm/min (η ειδική τιμή εξαρτάται από τον τύπο του |
|
Ομοιομορφία χάραξης |
±5% (με βάση τη γκοφρέτα 6 ιντσών, μέθοδος υπολογισμού: |
|
Μέθοδος Ψύξης Σταδίου Υποστρώματος |
Υδροψύξη |
|
Μέθοδος Ελέγχου |
Πλήρης ψηφιακός αυτόματος έλεγχος |
|
Έλεγχος πίεσης |
Αυτόματη ρύθμιση σταθερής πίεσης (εξασφαλίζει τη διαδικασία |
|
Προαιρετική διαμόρφωση |
Θάλαμος φόρτωσης LOAD LOCK (μπορεί να μειώσει την ατμοσφαιρική |
FAQ
Ποιο είναι το μέγιστο μέγεθος γκοφρέτας που υποστηρίζεται από αυτόν τον εξοπλισμό RIE;
8 ίντσες και κάτω.
Ποιο είναι το εύρος του ρυθμού χάραξης;
0,1-4 μm/min, που ποικίλλει ανάλογα με το υλικό και τη διαδικασία.
Μπορεί να προσαρμοστεί για τη χάραξη σύνθετων ημιαγωγών όπως GaAs και GaN;
Ναι, υποστηρίζει επίσης χάραξη διαφόρων υλικών, όπως πυρίτιο και SiO2.
Ποιες λειτουργικές μονάδες μπορούν να διαμορφωθούν προαιρετικά;
Ένας θάλαμος φόρτωσης LOAD LOCK μπορεί να διαμορφωθεί προαιρετικά.
Πώς διασφαλίζεται η επαναληψιμότητα της διαδικασίας;
Πλήρης ψηφιακός έλεγχος + αυτόματη ρύθμιση σταθερής πίεσης για μείωση των διακυμάνσεων.τ.
Δημοφιλείς Ετικέτες: rie echer, Κίνα κατασκευαστές rie χαρακτικών, προμηθευτές


